Qiimeeyaha raqiis ah ee gaas gaar ah oo ku takhasustay Shiinaha oo bixiya elektaron / semiconductor fasalka 99.999% daahirsanaanta kaarboon-ka kaarboon-ka ah

"Daacadnimo, hal-abuurnimo, adag, iyo hufnaanta" waxay noqon kartaa fikradda joogtada ah ee ururkeena muddada dheer si loo helo gaas korantada ah ee CHITETONE / Tetrafluometheride CF4. Wax ku ool ah, laakiin waxaan isku dayeynaa inaan ugu weyn nahay guud ahaan inaan noqdo saaxiibkaaga cajiibka ah.
"Daacadnimo, hal-abuurnimo, adag, iyo hufnaanta" waxaa laga yaabaa inay tahay fikirka joogtada ah ee ururkeena muddadada dheer si ay si wada jir ah ula dhisaan macaamiisha loogu talagalay isugeynta iyo is-faafinta labada dhinacShiinaha cf4 iyo gaaska cf4, "Abuur qiimayaal, u adeega macaamiisha!" waa ujeedadii aan ku dadaalnaa. Waxaan si daacad ah u rajeyneynaa in macaamiisha oo dhan ay dhisi doonaan iskaashi dheer oo faa'iido leh annaga iyo wadashaqayn faa'iido leh.

Cayayaanka farsamada

Carbon Tetrnluoride waa hydrocarbonlon oo leh qaaciddada kiimikada cf4. Waxaa loo qaddarin karaa inay tahay hydrocarbonlon oo mooyee, mooto methane, perverluorocarbon, ama anoonigic kombuyuutar. Carbon Tetrnluoride waa gaas aan midab lahayn oo midab la'aan ah, oo biyo ku dhex jira, ku milmay benzene iyo chloroform. Deganaanshaha heerkulka caadiga ah iyo cadaadiska, ka fogow oxidisyada adag, guban kara ama walxaha guban kara. Gaaska aan la xakamayn karin, cadaadiska gudaha ee weelka ayaa kordhaya marka uu kululeeyo kuleylka sare, waxaana jira halis ah in la jaro iyo qarax. Waa kiimiko ahaan xasillooni iyo kuwa aan guban. Kaliya dareeraha birta-sodia-sodium-ka dib-u-soo-celinta ayaa ka shaqeyn kara heerkulka qolka. Carbon Tetrnluoride waa gaas sababa saameynta cagaaran. Waa nin aad u deggan, waxay joogi kartaa jawiga waqti dheer, waana gaas aad u awood badan oo aqalka cagaaran oo aad u awood badan. Carbon Tetrnluoride waxaa loo isticmaalaa habka plasma-ka ee wareejinta isku dhafan ee isku dhafan. Waxaa sidoo kale loo isticmaalaa sidii gaas laser, waxaana loo isticmaalaa qaboojiyaha heerkulka-hoose, solvents, saliidaha, waxyaabaha ku dadaalaya qalabka loo yaqaan 'qalabka wax soo kacaya. Waa plasma-ka ugu isticmaalka badan gaaska gaaska wershadaha microroectonics-ka. Waa isku-darka gaaska tacliica ee tetrafluoromethane gaaska iyo gaaska tetrafluoromethane gaaska sareeya iyo oksijiinta sareeya. Waxaa si ballaaran loogu isticmaali karaa Silicon, silicon dioxide, silicon Nitride, iyo dhalada fosfooraska. Itting of filimada filimka ee khafiifka ah sida Tungsten iyo Tungsten ayaa sidoo kale si weyn loogu isticmaalaa nadiifinta dusha sare ee aaladda elektiroonigga ah, soosaarka unugyada qoraxda, kormeerka qandaraaslaha, kormeerka qandaraaslaha, iyo saabuunta wareejinta ee daabacan. Waxaa loo isticmaalay sidii qaboojiyaha heerkulka-hoose iyo plasma-ka qallalan ee tikniyoolajiyadda isku-dhafan ee isku-dhafan isku dhafan. Taxaddarrada Kaydinta: Ku keydi qabow, hawo-mareenka aan hawo lahayn. Ka fogow dabka iyo kuleylka. Heerkulka kaydinta waa inuusan ka badneyn 30 ° C. Waa in si gaar ah loogu keydiyaa si fudud (guban kara) alwaaxyo iyo ogid, kana fogow kaydinta isku dhafan. Aagga kaydinta waa in lagu qalabeeyaa qalabka daaweynta degdegga ah ee daadashada.

Codsi:

① qaboojiyaha:

Tetrafluomethane waxaa mararka qaarkood loo isticmaalaa sidii qaboojiyaha heerkulka hooseeya.

② Itering:

Waxaa loo isticmaalaa microfabilonics elektorka ah oo keli ah ama isku darka oksijiinta sida plasma etchant ee silicon, siliron dioxide, iyo siliron Nitride.

Xirmooyinka caadiga ah:

Faa'iido:

①heegh daahirsanaan, xaruntii ugu dambeysay;

Soosaaraha shahaadada shahaadada ee ②iso;

Nadiisiinta Nabiga;

Nidaamka falanqaynta khadka tooska ah ee loo yaqaan '④on-line-ka' ee xakameynta tayada tallaabo kasta;

⑤heegh Shuruud iyo hanaan sicir-barar ah oo lagu maareeyo dhululubada ka hor intaadan buuxin;